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Rapidus 創造了歷史,成為第一家接收極紫外 (EUV) 光刻裝置的日本半導體公司,朝著製造日本最先進的晶片邁進了一步。
Rapidus 已開始在位於北海道北部城市千歲的在建晶片製造工廠安裝 EUV 系統。
執行長小池敦義週三在新千歲機場舉行的儀式上表示:“我們將把北海道和日本的尖端半導體推向全世界。”
荷蘭供應商 ASML 生產的首批 EUV 光刻系統於週六抵達機場。工廠的安裝預計將於本月底完成。
由於體積巨大,該系統將分四個階段安裝。一個完整的裝置重達 71 噸,大約和鯨魚一樣大。它高 3.4 米。
EUV 機器結合了特殊光源、鏡頭和其他技術,可形成超精細電路圖案。該系統體積小,不易受到振動和其他干擾。
ASML 是全球唯一的 EUV 系統供應商。每臺系統的成本約為 1.8 億美元,具體價格取決於型號。這些系統需要很高水平的操作技能,只有少數晶片製造商採用了它們,包括臺灣半導體制造公司、電子和英特爾。去年全球僅交付了 42 臺。
11 月,小池帶領 ASML 監事會成員馬丁·範登布林克 (Martin van den Brink) 參觀了潔淨室和工廠的其他部分。範登布林克曾擔任首席技術官,在 EUV 技術開發中發揮了主導作用,他批准了這項安裝。
Rapidus 正與 IBM 合作,計劃於 2025 年春季採用最先進的 2 奈米工藝開發原型晶片,並於 2027 年實現量產。全球最大的代工晶片製造商臺積電的目標是在 2025 年實現 2 奈米晶片的量產。
更精細的電路賦予邏輯晶片更高的能效和處理能力,邏輯晶片是電子裝置的大腦。這種先進的晶片對於人工智慧和其他有望在未來幾十年決定經濟主導地位的技術至關重要。
20 世紀 80 年代,日本半導體產業的全球市場份額超過 50%。但到了 21 世紀,日本已退出生產越來越小的邏輯晶片的競爭。
沒有一家日本晶片製造商能夠生產比 40 奈米更先進的晶片。
Rapidus 專案由日本政府支援,旨在恢復日本生產先進晶片的能力,並減少對出口的依賴。東京的目標是讓日本晶片製造商的銷售額在 2030 年超過 15 萬億日元(970 億美元),是 2020 年的三倍。
日本承包商 Kajima 正在建造用於安置 Rapidus EUV 系統的建築物。潔淨室由 Takasago Thermal Engineering 建造。
Rapidus 的下一步是積累專業知識。該公司已派遣約 150 名工程師前往 IBM 學習如何管理生產線。
日本政府資料顯示,2030年全球先進半導體市場規模預計將達到53萬億日元,比2020年增長近8倍。
https://asia.nikkei.com/Business/Tech/Semiconductors/Rapidus-becomes-1st-Japan-chipmaker-to-get-ASML-s-whale-sized-EUV-machine
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