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1月29日，ASML釋出2024年第四季度及全年財報。據財報披露，2024年第四季度，ASML實現淨銷售額93億歐元，毛利率為51.7%，淨利潤達27億歐元。2024年第四季度的新增訂單金額為71億歐元，其中30億歐元為EUV光刻機訂單。2024年全年淨銷售額達283億歐元，毛利率為51.3%，淨利潤為76億歐元。ASML預計2025年第一季度淨銷售額在75億至80億歐元之間，毛利率介於52%至53%；2025年全年淨銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介於51%至53%。
ASML總裁兼執行長Christophe Fouquet表示：“我們在2024年第四季度的收入創歷史新高，淨銷售額93億歐元，毛利率為51.7%，均超出預期。這主要得益於升級管理業務的增長，與此同時，在第四季度我們還確認了兩臺高數值孔徑極紫外光刻系統（High NA EUV）的收入，並向客戶發運了第三臺高數值孔徑極紫外光刻系統（High NA EUV）。”
"ASML在2024年再創紀錄，全年淨銷售額達283億歐元，毛利率為51.3%。"
"我們預計2025年第一季度的淨銷售額在75億至80億歐元之間，毛利率介於52%至53%。預計第一季度的研發成本約為11.4億歐元，銷售及管理費用約為2.9億歐元。正如2024年10月所言，我們預計2025年的淨銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介於51%至53%。”
"我們在2024年第三季度曾分享過公司的觀點，認為人工智慧的發展是推動行業增長的核心驅動力。這一趨勢正推動市場格局重構，但並非我們所有的客戶都能從中均等獲益，由此產生的機遇和風險，已在我們2025年預期營收區間中有所反映。”
此外，2024年儲存晶片市場表現強勁，預計2025年儲存晶片仍將保持強勁發展。我們預計邏輯晶片市場將有所增長，以基本滿足AI的需求。
在裝機售後服務部分，已安裝系統的數量在持續增長，EUV的業務份額在提升，並且預計明年會有更多升級管理的需求。綜合來看，我們預計裝機售後服務的業務也會增長。
針對中國市場，ASML表示，2023年至2024年，中國市場的收入佔比較高。正如此前所解釋的，這是因為2022年甚至更早之前的訂單還未交付，當時我們的產能還無法滿足全部的市場需求；再加上其他客戶的需求時間節點發生了變化，我們能夠向中國客戶交付已經預訂的裝置。中國地區的交付量在增加，與此同時其他地區在減少，所以中國市場所佔的份額相對出現明顯上升。2025年中國市場的佔比將趨向歷史正常水平，恢復到2023年以前的常態狀況。
ASML根據收入佔比情況將全球分成7個市場，其中佔比向來較高的是中國臺灣地區、中國大陸地區、韓國、美國和日本。2024年來自這五個地區的營業收入比例分別是11%、41%、21%、17%和4%。
換言之，中國大陸廠商是ASML 2024年最大的客戶，營收佔比幾乎是第二位的韓國的兩倍。
然而，值得關注的是，自2023年以來，受美荷出口管制政策的影響（ASML擁有的許可證允許其可以在2023年底之前繼續對華出口受限的浸沒式DUV光刻機）以及中國大陸持續擴增本土半導體制造產能需求的影響，ASML收到了很多來自中國大陸客戶的訂單，這也直接帶動了來自中國大陸的營收佔比的提升。自2023年至2024年第三季度（一些2023年底交付的裝置會在2024年確認收入），ASML來自中國大陸的淨系統銷售額大幅提升，在整體淨系統銷售額當中的比重長期維持在40%~50%的高位。
但是隨著2024年1月1日，ASML許可證的到期，其已經無法繼續對華銷售受限的浸沒式DUV系統，而這類產品屬於高毛利產品。疊加中國廠商此前為防範風險，提前採購了大量的裝置，使得其後續對於其他未受限的DUV裝置的需求也可能會降低。這也將直接影響ASML接下來來自中國大陸的營收。
在2024年三季度的財報會議上，ASML CEO富凱就警告稱：“我們確實看到中國在我們的業務中正朝著歷史上更正常的比例發展。因此，我們預計中國明年的收入將佔我們總收入的20%左右。這也符合它在我們積壓訂單（三季度整體新增訂單也大跌了53%）中的代表性。如你們所知，很多中國企業實際上都是沉浸式的。沉浸式投資的毛利率明顯高於企業毛利率。因此，那裡存在一些壓力的事實也意味著我們的毛利率也面臨一些壓力。”
關於ASML公司技術發展，Christophe Fouquet表示：回顧2024年，ASML在技術領域成果豐富。這一年我們交付了一些關鍵產品，這些產品不僅對客戶在AI晶片領域的大規模生產至關重要，同時也支撐著他們的長期技術路線圖。
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首先，在低數值孔徑（Low NA）EUV方面，目前我們正與客戶合作持續最佳化系統成熟度，確保該系統在今年能夠支援大規模生產。此外，今年NXE:3800E系統也將成為ASML低數值孔徑（Low NA）EUV出貨的主力，為公司的毛利率帶來積極貢獻。
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而在高數值孔徑（High NA）EUV方面，我們對取得的進展非常滿意。2024年，我們的兩臺高數值孔徑（High NA）EUV完成客戶驗收，客戶對系統的成像效能高度認可。接下來我們將重點與客戶討論何時、以什麼樣的方式和規模將裝置應用於大規模量產。
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另外，ASML的DUV系統也在持續發展。我們交付了最新一代浸潤式DUV系統NXT:2150i，以及最新一代KrF DUV系統NXT:870B，後者可實現高達400片晶圓每小時的生產效率，顯著高於前代系統。
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在應用方面，也有值得關注的亮點。2024年底，我們的首批4單多電子束（Multi-beam）量測系統完成客戶驗收，這對我們來說是一個重要的里程碑。
展望未來，ASML CEO Christophe Fouquet也進一步指出：“首先，我們對ASML和半導體行業的長期發展前景仍持積極態度。我們相信AI將為半導體行業帶來更多發展機遇。其次，AI將推動更先進技術的發展，幫助應對成本和能耗問題。我們認為，這會帶動更先進的DRAM邏輯晶片技術發展。因此，企業會更希望制定積極進取的技術路線圖，當然這對推升光刻裝置的需求也有利。我們相信，ASML的解決方案能夠確保光刻技術依舊處於客戶在推進積極進取的技術路線圖時所需解決方案的核心。正如我們在2024年11 月的投資者日上所言，我們預計所有應用中需要的光刻層數都將繼續增加。”
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