日本Rapidus將於12月中旬接收首臺EUV光刻機 ASML將在附近規劃服務中心

據 TrendForce 援引日經新聞的訊息稱，Rapidus 從 ASML 訂購的 EUV 光刻機預計將於 12 月中旬運抵日本。 這標誌著 EUV 技術在日本的首次部署，是日本半導體行業尋求確立主要地位的重要一步。

Rapidus 目前正在北海道千歲市建設一座工廠，計劃於 2027 年開始量產 2 奈米晶片。 如果 2 奈米晶片生產成功，該公司還計劃購買幾臺 EUV 裝置，並打算建立第二個專門生產 1.4 奈米晶片的生產設施。

為了支援這些業務，ASML 將在千歲市建立一個服務中心。

英偉達公司執行長黃仁勳暗示有可能將人工智慧晶片生產外包給 Rapidus。 截至 10 月，Rapidus 工廠的施工進度已達 63%，仍在按計劃進行，該工廠於 2023 年 9 月開工。

除 Rapidus 外，美光的廣島工廠計劃於 2025 年安裝 EUV 裝置，並於 2026 年實現量產。

臺積電在日本的子公司 JASM 也計劃在 2027 年將 EUV 光刻技術與第二家晶圓廠整合，該廠將擁有一條 6 奈米生產線。