近日
我校（華中科技大學）武漢光電國家研究中心團隊
在國內率先攻克
合成光刻膠所需的原料和配方
助推我國晶片製造關鍵原材料
突破瓶頸
其研發的T150A光刻膠系列產品
已透過半導體工藝量產驗證
實現了 原材料全部國產
配方全自主設計
有望開創國內半導體光刻製造新局面
光刻膠是一種感光材料，用於晶片製造的光刻環節，工作原理類似於照相機的膠捲曝光。晶片製造時，會在晶圓上塗上光刻膠，在掩膜版上繪製好電路圖。當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會發生曝光，經過一系列處理後，晶圓上就會得到所需的電路圖。 由於光刻膠是晶片製造的關鍵材料，國外企業對其原料和配方高度保密，目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。
武漢光電國家研究中心團隊研發的這款半導體專用光刻膠對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。 相較於國外同系列某產品，T150A在光刻工藝中表現出的極限解析度達到120nm，且工藝寬容度更大、穩定性更高、留膜率更優，其對刻蝕工藝表現更好，透過驗證發現T150A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。
團隊在電子化學品領域深耕二十餘載，立足於關鍵光刻膠底層技術研究，致力於半導體專用高階電子化學品原材料和光刻膠的開發，並以新技術路線為半導體制造開闢新型先進光刻製造技術，同時為材料的分析與驗證提供全面的手段。
團隊負責人表示：“以光刻技術的分子基礎研究和原材料的開發為起點，最終獲得具有自主智慧財產權的配方技術，這只是個開始。我們團隊還會發展一系列應用於不同場景下的KrF與ArF光刻膠，致力於突破國外卡脖子關鍵技術，為國內相關產業帶來更多驚喜。”
本文來自“湖北日報、華中科技大學”。
