導讀：打臉來的真快！國內光刻機市場全面發展，ASML很現實的改口了！
大家都知道，中國在半導體晶片這方面發展得晚，基礎也差。這些年，國外的科技企業老是對咱們進行相關技術的封鎖，這就讓國內科技企業在晶片領域的發展一直比西方發達國家落後。得說一下，半導體晶片領域搞研發和生產都得投好多錢，研發時間還長，短時間裡看不到啥收益。所以這些年，國內的科技企業一直不太願意下大力氣去研發和生產國產晶片。在“造不如買”這種想法的影響下，國內科技企業一直靠著從國外進口晶片來發展，這就導致國產科技企業的發展很容易被別人限制！
光刻機十分重要，研發難度大
被打壓之後，好多國產科技企業才明白，只有弄出屬於咱們自己的晶片產業鏈，國內科技企業的發展才不會被人卡住脖子。所以這最近幾年，國內市場上開始興起一股研發和生產國產晶片的熱潮。要解決晶片的生產難題，那就得先解決光刻機的生產問題。只有有了先進的 EUV 光刻機，才能生產出 7nm 工藝以下的半導體晶片！
長久以來，全球最先進的 EUV 光刻機一直被荷蘭的 ASML 公司壟斷著。咱中國剛表示想進入光刻機領域發展的時候，ASML 公司根本瞧不上，還說：就算把 EUV 光刻機的圖紙公開，咱們也造不出先進的光刻機。其實，ASML 公司這話也不是沒道理，一臺先進的 EUV 光刻機有十萬多個零部件，供應商來自全球各地五千多個企業。中國想靠自己研發光刻機，明顯難度挺大的。不過中國在科技領域發展可從來沒認過輸，既然國外能研發出光刻機，那咱們也肯定能！
國內光刻機市場全面發展
在國內市場上，咱們國家的清華大學、中科院等機構都開始搞光刻機的研發了，而且咱們國家還舉全國之力去研發晶片。在 2020 年，國內新增加的跟半導體晶片有關的企業超過了兩萬多家。所以咱們在晶片和光刻機領域的研發速度還是挺快的。聽說，上海微電子所研發的 28nm 光刻機已經生產出來了。在高階光刻機領域，科研團隊已經研發出了 EUV 最關鍵的光源技術，而在高階光刻裝置的解析度方面，也研究出了咱們自己的 OPC 技術。可以說現在國內的光刻機市場正在全面發展呢！
沒想到“打臉”來的這麼快
咱們國家在光刻機領域發展得這麼快，ASML 公司沒想到“打臉”來得這麼快，很快就改口了。ASML 公司說：接下來要加大在中國市場的發展力度，而且已經賣了 11 臺光刻機到中國市場。不得不說，ASML 公司這態度變得還挺快的。這主要是因為中國市場是全球最大的光刻機市場，如果咱們研發出了自己的國產光刻機，那 ASML 公司不但在光刻機市場上會多一個強大的對手，還會丟掉全球最大的光刻機市場，這肯定是 ASML 公司不願意看到的！
ASML很現實的改口了，國內不能抱有任何幻想
在現實面前，ASML 公司也只好改口，改變態度了。在過去這幾十年，就算中國是全球最大的光刻機和半導體晶片市場，可 ASML 公司一直都不重視在中國市場的發展，就只在中國深圳有一個辦事處。但自從中國開始自己研究晶片和光刻機之後，ASML 公司很快就改變發展戰略了，不光加快在中國市場的佈局，還老是對中國市場表示友好。但不管咋樣，國內可不能再有啥幻想了，只有咱們實實在在地自主研發出國產光刻機，才能打破國外的壟斷！
