IT之家 11 月 20 日訊息，電子韓國當地時間本月 18 日舉行了位於器興園區的 NRD-K 新半導體研發綜合體的進機儀式，標誌著這一 2022 年動工的研發中心開始裝置安裝。
NRD-K 半導體研發綜合體佔地面積 10.9 萬平方米，將成為三星電子 DS 部下屬三大事業部（儲存器、系統 LSI 和 Foundry）的共同核心研發基地，到 2030 年這一專案將累計獲得約 20 萬億韓元（IT之家備註：當前約 1039.2 億元人民幣）的投資。
NRD-K 還將包含一條研發專用線，該產線將於 2025 年中投入使用。
▲NRD-K 工地。圖源三星電子官網，下同
NRD-K綜合體將匯入 ASML High NA EUV 光刻機、新材料沉積裝置在內的一系列最先進半導體生產工具，旨在加速 3D DRAM、千層 V-NAND 在內的下代儲存晶片開發，還將建設 WoW 晶圓鍵合基礎設施。
三星 DS 部負責人全永鉉在儀式上表示：
透過 NRD-K，我們將建立從基礎研究到量產的下一代半導體技術的良性迴圈體系，從而大幅提高開發速度。 我們將從三星電子半導體 50 年曆史的起點器興出發，為實現新的飛躍奠定基礎，並創造新的百年未來。
▲ 正在演講的全永鉉
