ASML賣給日本EUV光刻機：重71噸，幫助Rapidus製造2nm晶片

前不久，我們曾報道日本半導體廠商Rapidus將計劃在2027年量產2nm晶片。如今根據最新訊息，Rapidus籌備晶片製造的動作非常迅速，已經成為日本首家獲得ASML EUV光刻機裝置的公司。

12月14日，ASML製造的第一批EUV光刻機系統已經抵達日本新千歲機場。據瞭解Rapidus從ASML購買的型號為NXE:3800E光刻機，晶圓吞吐量相較上代提升37.5%，可以滿足Rapidus對於2nm晶片的製造需求。

不過ASML的光刻機系統體積巨大，足足重71噸，Rapidus將分四個階段來進行安裝。Rapidus CEO表示，有了ASML的EUV光刻機裝置，接下來Rapidus將從北海道和日本向全球提供最先進的半導體晶片。

Rapidus的2nm晶片是與IBM進行合作，目前Rapidus已經派遣大約150名工程師前往IBM學習生產線管理技術，計劃在2027年順利實現2nm晶片的量產。

雖然這個時間要比晶片製造巨頭臺積電要晚兩年，但依然可以幫助日本振興先進晶片的生產能力，降低對進口晶片的依賴。

根據日本政府的預測，2030年全球先進半導體市場預計將達到53兆日元，而日本政府的目標，則是在2030年實現日本國內半導體銷售額達到15兆日元。

此前訊息稱Rapidus量產2nm製程晶片需要大約5兆日元的資金，而為了大力扶持Rapidus，日本政府在今年已經宣佈為Rapidus提供接近2兆日元的補助。再加上索尼、豐田、鎧俠、軟銀等一眾企業共同的支援，Rapidus生產所需的資金肯定是不用愁了，接下來就是看晶片良品率以及在市場上是否有客戶買賬了。