據多家知名媒體報道指中國最先進的晶片裝置商中微公司起訴美國國防部成功，已被移出CMC名單，此舉證明中國企業只要有足夠的底氣就應該敢於抗訴，以免被美國不公平對待，給眾多中國企業樹立了榜樣。
據悉中微公司此前被列入CMC名單之後，曾多次與美國國防部溝通，但是美國國防部一直沒有將它移出CMC名單，這對於這家中國晶片裝置企業的發展造成了一定的不利影響，如今它被移出名單，它的發展可望迴歸正軌。
中微公司為中國最先進的晶片裝置商，它在臺積電量產5奈米工藝的時候，就已量產5奈米刻蝕機，隨後臺積電採用了中微公司的刻蝕機，由此證明中微公司的刻蝕機技術已達到世界先進水平。
據悉中微公司其實早已量產3奈米的刻蝕機，幾乎與臺積電量產3奈米工藝的時間相仿，凸顯出它在先進晶片裝置技術研發方面繼續保持世界先進水平。
只是由於CMC名單的影響，中微公司的3奈米刻蝕機並未獲得臺積電採用，如今它被移出CMC名單，臺積電採用它的裝置將再無障礙。
晶片裝置如今是中國晶片行業發展的關鍵，中國的晶片裝置、晶片材料都積極推進技術研發，不過由於在技術方面的困難，部分突破到14奈米、部分達到7奈米，而只有刻蝕機才達到5奈米及以下工藝。
中微公司的創始人尹志驍為晶片行業的資深技術人才，畢業於中國科學技術大學，後來前往美國深造，之後先後在美國的晶片裝置企業泛林集團、應用材料公司等企業工作，積累了深厚的技術，2004年回國創立了中微公司。
中微公司在刻蝕機技術研發方面持續與全球最先進的晶片技術同步，印證了尹志驍確實有很強的技術，中微公司在晶片裝置技術研發方面居於全球領先水平，鼓舞了中國晶片業界，作為後來者的中國晶片，完全有機會研發出全球頂尖的晶片裝置。
目前困擾中國晶片技術發展的主要是光刻機，受制於諸多技術障礙，中國晶片行業正集中全力研發先進的光刻機，以突破這最後的桎梏，只要這項裝置突破，中國先進晶片將一片坦途。
回顧這幾年，中國晶片也已取得長足的進展，中國晶片產能從佔全球不到一成份額，到如今已超過三成，中國晶片在滿足國內需求之餘，還開始走向國際市場，今年前10個月晶片出口大幅增長，全能晶片出口額突破1萬億元人民幣已不成問題。
中國晶片大舉替代進口，為中國節省了大量外匯，晶片進口額從2021年的近4400億美元降低到2023年的3500億美元左右，大幅減少晶片進口額，為國內晶片行業提供了大量收入。
隨著中國晶片發展，中國正在積累晶片技術，培育更多晶片技術人才，國內晶片行業獲得更多收入也有助於加速技術研發，這也將加快中國在先進晶片裝置方面的研發，形成一種良性迴圈，中國晶片突破是必然的。
