支援後2nm工藝時代！ASML將發貨最新EUV光刻機EXE:5200 英特爾是買家

快科技2月1日訊息，據國外媒體報道稱，ASML已經確認，即將出貨最新款的EUV光刻機EXE:5200，相比上代來說，表現更加強悍，當然不會賣給中國廠商。

按照官方的說法，EXE:5200是現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改進款，其將擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時185片以上），可以更好的為2nm工藝量產做支撐。

在這之前，ASML宣佈英特爾訂購了業界首個TWINSCAN EXE:5200光刻機（一種具有高數值孔徑和每小時 200 多片晶圓的極紫外 (EUV) 大批次生產系統），這標誌著他們在引入0.55 NA EUV的道路上又邁出了一步。

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數值孔徑，比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了，可以為更小的電晶體功能提供更高解析度的模式。

EUV 0.55 NA 的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點，這是業內首次部署，隨後將採用類似密度的記憶體技術。