ASML 即將發貨首臺第二代 High NA EUV 光刻機 EXE:5200

IT之家 2 月 1 日訊息，ASML 總裁兼執行長 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度財報電話會議上表示，該企業的首臺第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻機 TWINSCAN EXE:5200 即將以“早期工具”的身份開始發貨，用於技術成熟度驗證。

▲EXE:5000 系統

EXE:5200 是現有初代High NA EUV 光刻機 EXE:5000 的改進款，根據 Christophe Fouquet 的說法，該型號“更適合大批次生產”。而 EXE:5000 作為初期版本主要用於 High NA EUV 光刻技術的開發。

從 ASML 光刻系統的迭代規律來看，EXE:5200 預計將擁有更高的晶圓吞吐量（IT之家注：EXE:5000 為每小時 185 片以上），同時支援更為精細的後 2nm 邏輯半導體工藝。

▲NXE:3800E 系統

Christophe Fouquet 還提到，其 0.33 (Low) NAEUV 光刻機的最新型號 NXE:3800E 已在工廠實現每小時 220 片的設計晶圓吞吐量，較初期的 185 片進一步提升，比前一代的 NXE:3600D 已高出 37.5%，充分發揮了結構改進帶來的優勢。