自9.24行情以來，半導體板塊頗受資金青睞，板塊時不時出現漲停潮！11月11日，半導體板塊再掀漲停潮，光刻機（膠）、AI晶片、中芯概念、儲存晶片、先進封裝、EDA等多個細分領域紛紛大漲。
訊息面上，11月8日資訊，美眾議院中美戰略競爭特別委員會主席向全球頭部半導體裝置公司ASML、AMAT、LAM、KLA、TEL質詢對中國大陸銷售情況。金融時報11月8日訊息顯示，臺積電11月11日起開始停止給中國大陸提供7nm及更先進節點的AI晶片。
光刻產業鏈（光刻機、光刻膠）作為我國半導體領域最為薄弱的環節之一，國產替代的迫切性強，因此，在近年來的半導體行情中常常扮演著領頭羊的角色！下文，筆者就為大家梳理光刻產業鏈及其相關公司。
光刻機是“半導體工業皇冠上的明珠”！上海微電子“挑大樑”！
中航證券分析指出，光刻是晶片製造的核心工藝，佔晶片製造1/2的時間+1/3的成本，光刻機被譽為“半導體工業皇冠上的明珠”，同時也是國內最“卡脖子”的環節。
光刻工藝是指積體電路製造中利用光學-化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。光刻技術指在光照作用下，藉助光致抗蝕劑(即:光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。
典型的光刻工藝流程包括：襯底製備、塗膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、腐蝕、去膠等。在光刻中主要使用工具及材料為光掩膜、光刻機及光刻膠。
光刻機根據光源不同（對應波長不同）可分成：紫外（UV）光刻機、深紫外（DUV）光刻機、極紫外（EUV）光刻機三類，對應不同納米制程節點款晶片的製造需求。EUV是目前最先進的光刻裝置，整體結構與DUV類似，它對各子系統的精密度要求極高，目前EUV市場被ASML公司壟斷。
光刻機主要由光源系統、曝光系統（分為照明模組和投影物鏡模組）、雙工件臺系統構成。 光源系統和曝光系統合稱為光學系統，是光刻機最核心的部分，直接決定光刻機的工藝效能。
目前，上海微電子是推動光刻整機國產化的主力。光學鏡片、鐳射光源、光學晶體、光場勻化器、掩膜版等核心部件均有國產廠商在加速研發提高在高階市場的覆蓋度、推動光刻機國產化。
目前全球光刻機三大龍頭ASML、Nikon、Canon佔據絕大部分市場份額。開源證券指出，ASML預計其2025財年總營收在300-350億歐元，中國大陸地區營收佔比迴歸常態，在20%左右，則對應60-70億歐元。目前ASML仍佔據中國大陸光刻機市場的絕大多數份額，因此可以認為，國內未來3年每年對光刻機的增量需求約為60-70億歐元。同時，考慮到國內還有大量存量光刻機，其替換或翻新需求有望進一步擴容光刻機市場。
上游零部件市場方面，考慮到2023年全球光刻機龍頭ASML的裝置收入達219億歐元，產品相關支出為106億歐元。中航證券據此測算，光刻機的上游零部件成本佔比約48%。而我國海關資料顯示，2023年國內半導體用光刻機進口金額約87.4億美元。
因此，中航證券測算認為，若光刻機供應鏈實現全國產替代，對應上游零部件市場空間約300億元，考慮現有存量光刻裝置的備件更換，市場空間有望進一步增大。
高階光刻膠國產替代空間廣闊！
光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料，約佔晶圓材料製造成本的13%。光刻膠又稱光致抗蝕劑，組分主要包括成膜樹脂、感光組分、微量新增劑和溶劑。
光刻膠的主要成分是樹脂、感光劑、溶劑和新增劑。按照配套使用的光刻機型別，半導體光刻膠可劃分為g/I線膠、KrF膠、ArF膠、ArFi膠和EUV膠，全球市場佔比分別約為16%、34%、10%、38%和2%。
全球半導體光刻膠市場基本被日本企業壟斷。TOP5公司中東京應化、陶氏化學、JSR和住友化學均為日本企業。目前國內8英寸和12英寸晶圓製造產線中使用的高階光刻膠仍有90%以上依賴進口。
根據Trend Bank，2023年我國半導體光刻膠市場受積體電路行業景氣度下行影響，市場規模約34億元，同比下滑13.98%。展望2024年，在人工智慧技術帶動及週期復甦趨勢下，半導體光刻膠市場有望恢復至38億元，同比增長14.01%。在自主可控邏輯下，未來國內光刻膠市場增速有望保持高於全球市場的增速。
上海電氣、海立股份、晶方科技等多隻光刻機（膠）概念股近一個月漲超30%！
為了給讀者提供一些參考，筆者根據上市公司資訊、公告、行業研報，梳理出了A股中主要的光刻機、光刻膠概念股。其中，茂萊光學、上海電氣、海立股份等3只個股在截至11月11日的近一個月中，股價漲幅超100%。此外，還有張江高科、晶方科技等14只個股在近一個月中股價漲幅超30%。
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