本文由半導體產業縱橫（ID：ICVIEWS）綜合
久日新材表示，公司年生產面板光刻膠4000噸和半導體光刻膠500噸。
近日，久日新材釋出公告，該公司在控股孫公司徐州大晶新材料科技集團有限公司投資建設的“徐州大晶新材料科技集團有限公司（下稱“大晶新材”）年產4500噸光刻膠專案”現已完成建設，試生產方案業經專家組評審透過，於11月19日起正式進入試生產階段。
該公司表示，上述專案為年生產面板光刻膠4000噸和半導體光刻膠500噸，將推動其光刻膠產品產業化程序，實現光刻膠產品的規模化生產，增加新的利潤增長點。
據《科創板日報》報道，今年11月19日，久日新材披露投資者關係活動記錄表顯示，其子孫公司大晶新材4500噸/年光刻膠生產線主要生產i-線和g-線半導體光刻膠、TFT正性面板光刻膠等產品，預計今年12月底前投產。專案投產後，產能將逐步釋放，具體達產時間將受到生產情況、市場需求、客戶訂單等因素的影響。
此外，久日新材表示，該公司已研發多款半導體i-線光刻膠、發光二極體g-線/h-線光刻膠和麵板光刻膠，並已進入下游客戶送樣測試階段，其中部分產品已透過測試正式供貨。
對此，有半導體新材料行業人士對錶示，一方面，大晶新材光刻膠生產線主要生產i-線和g-線半導體光刻膠波長為365nm、436nm，主要用於250nm以上的工藝，屬於中低端光刻膠；另一方面，該專案為年生產半導體光刻膠500噸，屬於小規模試生產階段。
“目前國內中低端光刻膠領域，已有很多公司實現量產，且規模很大，如：南大光電、北京科華等。”該半導體新材料行業人士進一步表示。
從中低端市場光刻膠市場滲透率看，“目前國內市場需求很大，國內成熟製程應用廣泛，隨著技術的不斷進步和國產化程序的加速，市場需求將持續增長。”上述半導體新材料行業人士表示。
久日新材主要從事光引發劑的研發、生產和銷售，產品應用於電器/電子塗裝、印刷線路板製造、3D列印、半導體、光刻膠等行業。
財報顯示，今年前三季度，該公司營業收入為11.24億元，同比增長26.00%；歸母淨利潤虧損2412.96萬元，上年同期虧損5715.74萬元；扣非淨利潤虧損3214.73萬元，上年同期虧損7422.71萬元。
JSR韓國EUV光刻膠工廠，開建
據韓國產業通商資源部官網新聞稿，半導體光刻膠巨頭日本 JSR 在韓國忠清北道清州舉行 MOR（金屬氧化物）光刻膠生產基地的奠基儀式。
該生產基地由 JSR 在韓子公司 JSR Micro Korea 建設，將生產可用於 EUV 光刻的 MOR 光刻膠，目標 2026 年建成投產。這也是韓國境內的首個同類光刻膠工廠。
適用於 EUV 製程的 MOR 光刻膠能夠替代低端化學放大光刻膠，在確保超精細工藝的競爭力方面發揮著關鍵作用。JSR Micro Korea 新工廠有望直接向韓國本土兩大半導體制造巨頭三星電子、SK 海力士供貨，保證光刻膠供應穩定可靠。
JSR 於 2003 年在忠清北道梧倉首次設立工廠，並不斷擴大其在韓國的業務。這個最新專案將擁有世界上第一個半導體級 EUV MOR 生產設施。
韓國仍然嚴重依賴日本進口光刻膠，而光刻膠是半導體和顯示器製造所必需的。不過，近年來，韓國國內生產舉措已穩步減少了進口量。
行業分析師預測，JSR 的新生產基地將大幅增加韓國本土光刻膠的份額。2019 年，日本對關鍵光刻膠材料的出口限制導致韓國出現供應鏈危機。這引發了韓國國內生產的推動，吸引了眾多半導體材料供應商來到該地區。
韓國貿易和投資部部長Dae-ja Kim,出席了奠基儀式。據《每日經濟新聞》報道，該儀式被視為日本出口限制有效解除的訊號。Kim在儀式上表示：“我們的目標是支援 JSR 的投資成功，並與忠北省和清州市合作開展更多專案。我們的政策將側重於將韓國定位為全球高科技產業中心。”
韓國關稅廳（KCS）的資料顯示，過去五年來，韓國從日本進口的半導體光刻膠數量持續下降。進口量從 2020 年的 992.6 噸下降到 2023 年的 668.7 噸，再到 2024 年 1 月至 10 月的 539.4 噸。儘管進口量有所下降，但日本在 2024 年仍供應了韓國約 95% 的光刻膠。JSR 的目標是到 2026 年完成 EUV MOR 的建設並開始量產。
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