耗資3.5億美元！阿斯麥展出新型“High NA EUV”裝置

快科技2月12日訊息，據媒體報道，荷蘭光刻機制造商阿斯麥（ASML）首次展出一臺新型"High NA EUV"光刻機。

阿斯麥表示，這款裝置耗資3.5億美元（約合人民幣25億元），主要面向等高階半導體制造商，預計今年將出貨一部分，但在定製和安裝方面仍有工作要做。

據悉，數值孔徑是用來衡量光學系統能夠收集的光的角度範圍，透過增大數值孔徑，可以實現更小的解析度和更高的分辨能力，從而滿足微細加工的要求。

從阿斯麥官網所公佈的訊息來看，他們的高數值孔徑極紫外光刻機，將命名為EXE系列。

其數值孔徑將由0.33增至0.55，已有TWINSCAN EXE:5000和TWINSCAN EXE:5200兩個型號，前者在2018年就已開始獲得客戶的訂單，後者從去年四季度也開始獲得訂單。