金融界2025年1月28日訊息，國家智慧財產權局資訊顯示，吉通科技（廣州）有限公司申請一項名為“改進4的一種提高光刻機解析度的方法”的專利，公開號CN 119356036 A，申請日期為2024年7月。
專利摘要顯示，改進4的一種提高光刻機解析度的方法，本發明將光儲存單元置於物鏡和晶圓之間，曝光時，訊號光經過透鏡系統後，在光儲存單元以原子自旋波的形式臨時儲存，光的能量轉化為光儲存單元介質原子的能量，隨後所儲存的光資訊會按照原來的方向釋放出來，可以視為1個理想的點光源，這個點光源按照原來的方向傳播，由於傳播的路徑沒有透鏡孔徑限制，有效孔徑變大，對應的艾裡斑變小，最小可分辨尺寸就會降低，當這個點光源達到晶圓時，艾裡斑寬度變窄，光刻機的解析度得到大幅提升，這樣的益處在於對光刻機的孔徑要求可以降低，為了實現同樣的解析度要求，透鏡成像系統可以採用小的孔徑，這無形中降低了製造的難度和成本。
天眼查資料顯示，吉通科技（廣州）有限公司，成立於2021年，位於廣州市，是一家以從事軟體和資訊科技服務業為主的企業。企業註冊資本100萬人民幣，實繳資本100萬人民幣。透過天眼查大資料分析，吉通科技（廣州）有限公司參與招投標專案16次，專利資訊6條，此外企業還擁有行政許可6個。
本文源自：金融界
作者：情報員
