【編者按】自2020年舉辦以來，IC風雲榜已成為半導體行業的年度盛事。今年新增12項獎項，共設39項大獎，進一步關注半導體投資與退出、科技前沿領域貢獻、專案創新以及技術“出海”與拓展。評委會由超過100家半導體投資聯盟會員單位及500+行業CEO組成。獲獎名單將於2025半導體投資年會暨IC風雲榜頒獎典禮上揭曉。
【候選企業】阜陽欣奕華新材料科技股份有限公司（以下簡稱：欣奕新材）
【候選獎項】年度技術突破獎
【候選產品】12英寸積體電路用248nm深紫外正性光刻膠：SKP10
欣奕新材，自光刻膠產業起步，是中國大陸首家實現彩色/黑色顯示光刻膠（RGB/BM）大規模量產出貨的企業。經過十餘年的深耕細作，其光刻膠出貨實績位居全球前列、國內頭部，成功填補了國內在該領域的空白，有效解決了關鍵領域原材料“卡脖子”的難題。
在半導體光刻膠領域，欣奕新材同樣展現出強大的技術實力。該公司擁有光刻膠方面深厚的技術積累，研發團隊由多名行業領軍專家帶領，專注高階積體電路、先進封裝製程應用光刻膠的開發與生產。已與多家12英寸Fab廠和先進封裝產線達成合作關係，多款KrF、I-line、先進封裝（Bump、RDL）光刻膠產品在客戶匯入驗證中，併成功獲取訂單實現出貨。此外，欣奕新材依託在光刻膠領域積累的技術經驗，不斷進行產業技術融合和產品延伸，還開發出IC用特種光刻膠，如高分辨光刻膠（CIS）、微透鏡光刻膠等，均屬於國內首創，並已透過客戶認證，可應用於CIS、AR/VR領域。
此次，欣奕新材憑藉其明星產品——SKP10競逐IC風雲榜年度技術突破獎，併成為候選企業。
SKP10是一款專為12英寸晶圓製造中的離子注入工藝應用設計的KrF光阻。該產品憑藉高深寬比（A/R>7/1）、高解析度（CD=250nm）、寬工藝視窗、低駐波及卓越的抗離子注入效能，能夠靈活應用於不同膜厚（1-3μm）的離子注入工藝層，滿足多個成熟製程技術節點的晶圓製造需求。該產品在離子注入應用中經客戶驗證，可對標國外同類型產品效能。
SKP10透過採用特定結構的樹脂和光酸體系，引入透明樹脂結構和非揮發脫保護基團，有效調控光刻膠的透光率、光酸擴散速度、顯影速率及耐離子注入效能，成功解決了collapse、Top loss形貌、駐波及耐離子注入等應用難題，全面符合12英寸晶圓製造的高標準。
該產品已申請多項發明專利，涵蓋化學放大型光致抗蝕劑及其製備方法、KrF樹脂及其製備方法和化學放大型光致抗蝕劑等多個領域，技術實力領先。
SKP10已在國內12英寸產線進行工藝、電學和良率驗證，表現優異。
【獎項申報入口】
2025半導體投資年會暨IC風雲榜頒獎典禮將於2024年12月舉辦，獎項申報已啟動，目前徵集與候選企業/機構報道正在進行，歡迎報名參與，共赴行業盛宴！
【年度技術突破獎】
旨在表彰2024年度於前沿技術領域開展原始性重大技術創新，達到國際先進/領先水平，未來或產生重大經濟社會效益，對於推動我國積體電路產業鏈自主安全可控發展發揮重大作用的企業。
【報名條件】
1、深耕半導體某一細分領域，2024年釋出的新技術或產品具有原始性重大技術創新，達到國際先進/領先水平；2、產品應用範圍廣，具有良好市場前景，對全球及國內半導體產業發展起到重要作用。
【評選標準】
技術的原始創新性（50%)；技術或產品的主要效能和指標（30%)；產品的市場前景及經濟社會效益（20%）。
