價值27億元，ASML高數值孔徑EUV光刻機組裝畫面公開

晶片裝置製造商阿斯麥（ASML）2月10日向媒體展示新一代極紫外光刻機（EUV），型號為：TWINSCAN EXE:5000。這臺光刻機大小約一輛雙層巴士，重量約兩架空客A320飛機、價值高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。該裝置對ASML在1250億美元的EUV市場保持領導地位至關重要。

ASML預計今年能出貨“數臺”High NA EUV。 已下了訂單，第一臺裝置已於去年12月送達該公司俄勒岡工廠，預定2025年啟用，開始製造晶片。

這臺EUV可以製造8nm線寬電路，比前一代小1.7倍，從而實現電晶體密度提高至2.9倍。電路越細，晶片上的電晶體就越多，處理速度和表現就越佳。 ASML高管表示，該裝置對人工智慧（AI）發展至關重要。

ASML CEO Peter Wennink上月受訪時表示，AI需要“大量計算能力和資料儲存。 如果沒有ASML，沒有ASML的技術，將無法實現。 這會是我們業務的一大驅動力。”

ASML發言人莫爾斯（Monique Mols）2月10日在媒體參觀該公司總部時說，安裝這套重達15萬公斤的系統，要用到250個貨箱、250名工程師，且需耗時6個月。

ASML從2018年開始銷售的所謂low-NA（低數值孔徑）光刻機裝置，標價是1.7億歐元（約合13.16億元人民幣）。