訊息稱 Rapidus 計劃引入 10 臺 EUV 光刻機

IT之家 1 月 31 日訊息，據外媒 Toms Hardware 報道，日本先進半導體製造商Rapidus執行長小池淳義在接受媒體採訪時表示，Rapidus 計劃在其位於日本北海道千歲市的創新整合製造工廠（IIM-1）和未來的 IIM-2 共安裝 10 臺 EUV 光刻機，不過其沒有透露具體的安裝執行時間表。

參考IT之家此前報道，Rapidus 在去年 12 月購入了 ASML 的“TWINSCAN NXE:3800E”EUV 光刻機系統，暫時也不清楚除了 TWINSCAN NXE:3800E 系統外，是否 Rapidus 還會引入其他型號的光刻裝置。

此外，Rapidus 先前還聲稱與美國晶片巨頭博通（Broadcom）合作，力爭量產2奈米尖端晶片，計劃今年6月向博通提供試產晶片。

除了博通，Preferred Networks也委託Rapidus代工2奈米晶片，用於生成式AI處理；此外還有訊息稱Rapidus正與30至 40家企業洽談代工業務，目標是承接定製化的少量多品種半導體訂單，與臺積電的大規模生產模式形成差異化競爭。